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臺積電TSMC和Cadence擴大Virtuoso定制設計平臺的合作

發(fā)布時間:2013-07-10 來源:電子元件技術網 責任編輯:Cynthiali

【導讀】臺積電已與Cadence在Virtuoso定制和模擬設計平臺擴大合作以設計和驗證其尖端IP。臺積電還將擴展其純正以本質為基于SKILL語言的的工藝流程設計套件(PDKs)產品至16納米,創(chuàng)建并交付全面合格并高品質的本質為基于SKILL語言的的PDKs。

晶圓代工廠部署Virtuoso平臺用于先進節(jié)點的定制設計需要, 涵蓋16納米FinFET設計。主要工具包括Virtuoso Schematic Editor、Analog Design Environment、Virtuoso LayoutSuite XL和先進的GXL技術。

為充分發(fā)揮最大性能和高品質成果,新PDKs可驅動Virtuoso 12.1平臺中的尖端特性,例如自動對齊、在鄰接過程中自動處理復雜的規(guī)則、鏈接器件、支持色彩感知版圖設計和先進布線。

為專注于解決先進節(jié)點設計的日益復雜性,全球電子設計創(chuàng)新領先企業(yè)Cadence設計系統(tǒng)公司今天宣布,臺積電已與Cadence在Virtuoso定制和模擬設計平臺擴大合作以設計和驗證其尖端IP。此外,臺積電還將擴展其純正以本質為基于SKILL語言的的工藝流程設計套件(PDKs)產品至16納米,創(chuàng)建并交付全面合格并高品質的本質為基于SKILL語言的的PDKs,可實現Virtuoso平臺所有的頂尖功能。為充分發(fā)揮最大性能和高品質成果,新PDKs可驅動Virtuoso 12.1平臺中的尖端特性,例如自動對齊、在鄰接過程中自動處理復雜的規(guī)則、鏈接器件、支持色彩感知版圖設計和先進布線。

“我們將繼續(xù)加大投資升級Virtuoso平臺以解決與日俱增的設計挑戰(zhàn)。我們與臺積電和客戶緊密協作以加強和實現高級節(jié)點和主流設計的要求,”Cadence硅實現集團研發(fā)高級副總栽徐季平博士表示。“本質為基于SKILL語言的為基礎的PDKs就是驅動Virtuoso方法發(fā)揮完全潛力的關鍵。”

“我們與Cadence在Virtuoso平臺有著長期的合作,”臺積電設計基礎架構市場部高級總監(jiān)Suk Lee表示。“本質為基于SKILL語言的PDK開發(fā)延伸至16納米使我們能夠滿足客戶在先進技術定制設計方面的需求。”

關于Cadence :Cadence公司成就全球電子設計技術創(chuàng)新,并在創(chuàng)建當今集成電路和電子產品中發(fā)揮核心作用。我們的客戶采用Cadence的軟件、硬件、IP、設計服務,設計和驗證用于消費電子、網絡和通訊設備以及計算機系統(tǒng)中的尖端半導體器件。公司總部位于美國加州圣荷塞市,在世界各地均設有銷售辦事處、設計中心和研究機構,以服務于全球電子產業(yè)。
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